SSC-PCAE光催化活性評價系統(Photocatalytic activity evaluation system)沿用半導體行業的真空技術，將玻璃管路和閥門替換為EP管和EP自動閥，實現了整個系統的全自動控制實驗過程，全自動在線采樣分析，實現了實驗中真正的全自動運行。

產品詳情：

近年來半導體行業的快速發展，超高純316L不銹鋼，符合SEMI F20標準，通過真空感應熔煉+真空自耗重熔（VIM+VAR），并使用特殊的工藝處理，對材料進行很大的提純，進一步減少了材料中的的非金屬夾雜物和氣體成分。EP管（316L，VIM+VAR）是表面經過電解拋光處理，以提高產品內部的平滑性，并在金屬表面形成富鉻層以提高耐腐蝕性，電解拋光后的產品做鈍化處理以去除游離鐵離子。EP拋光產品經 SEM、 ESCA/XPS、AES分析，產品質量滿足半導體協會 SEMI F20 標準。

基于EP拋光（316L，VIM+VAR）技術的發展，鑫視科shinsco采用國內優秀企業生產的EP管（316L，VIM+VAR）和EP自動閥門，替換了光催化活性評價系統的原有玻璃管路和閥門，并實現了PLC全面控制整套系統，實現了SSC-PCAE的全自動化運行。

SSC-PCAE光催化活性評價系統(Photocatalytic activity evaluation system)沿用半導體行業的真空技術，將玻璃管路和閥門替換為EP管和EP自動閥，實現了整個系統的全自動控制實驗過程，全自動在線采樣分析，實現了實驗中真正的全自動運行。SSC-PCAE主要應用于光解水、全解水、電催化、光催化CO2還原、光催化固氮、光電催化氣體產物分析、耐壓釜式反應、催化反應的微量氣體收集等。

產品優勢：

1)封閉反應的產物氣體收集、采樣、在線分析的一體化系統；

2)內置氣體磁力增壓泵，形成高強壓差，實現氣體快速混勻；

3)全系統耐壓-14.6psi~150psi，實現了從真空到10atm的壓力覆蓋；

4)應用半導體材料（TiO2、InO、C3N4、CdS等）催化劑的活性評價；

5)催化劑產氫、產氧、光解水的性能分析；

6)催化劑二氧化碳還原的性能分析；

7)系統可配和玻璃、石英、不銹鋼、PEEK、PTFE等材料制備的反應器使用；

8)可滿足光電反應、氣固反應、膜催化、多相反應等特殊實驗要求；

9)系統管閥件全部采用EP（316L，VIM+VAR）管和EP閥，對氣體無吸附；

10)系統即裝即用，可兼容任意廠家氣相色譜儀，無需額外增加進樣閥門；

11)GC測試范圍廣，氫、氧、CO2、甲烷、CO、甲醛、C1-C5等微量氣體。

技術參數：

實物圖：